分析市场上两种高端的节能隔热膜的特性！

这几年随着节能减排的大力推广玻璃贴膜市场可谓是层出不穷产品更新，夏季来临隔热膜更是炙手可热现在申膜国际就带大家分析下２种市场上常见的隔热膜的高端产品真空蒸发镀膜隔热膜另外一种是磁控溅射隔热膜

1.真空蒸发镀膜法就是在1.3×10~1.3×10-3Pa（10-4~10-5Torr）的真空中以电阻加热镀膜材料，使他在极短的时间内蒸发，蒸发了镀膜材料分子沉积在基材表面上的形成镀膜层。真空镀膜室是使镀膜材料蒸发的蒸发源，还有支承基材的工作架或卷绕装置都是真空蒸发镀膜设备的主要部分。镀膜室的真空度，镀膜材料的蒸发熟练的，蒸发距离和蒸发源的间距。以及基材表面状态和温度都是影响镀膜质量的因素。

2.磁控溅射法是指电子在电场的作用下加速飞向机片的过程与氩原子发生碰撞，电离出大量氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛伦兹力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，早运动过程中不断的与氩离子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低 ，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，最终沉积在基片上面。
   磁控溅射法与蒸发法相比，具有镀膜层与基材层的结合力强，镀膜层致密，均匀等优点。真空蒸发镀膜法需要使金属或金属化合物蒸发气化，而加热温度又不能太高，否则气相蒸镀金属烧坏被塑料基材，因此，真空镀膜法一般适用于铝等熔点较低的金属源，是目前国内应用较为广泛的真空镀膜工艺。相反，喷溅镀膜法利用高压电场激发产生等离子体镀膜物质，适用于几乎所有高熔点金属，合金、非金属及金属化合物镀膜源，如铬，钨，钛，银，金等。而且它是一种强制性的沉积过程，采用该法获得的镀膜层与基材附着力远高于真空蒸发镀膜法，镀膜层具有致密，均匀等优点，加工成本也相对较高。利用磁控溅射技术所产生的太阳膜具有膜层致密、均匀，有良好的透光性和优良的光谱选择功能 ，使其能够为车主带来舒适、安全的环境。

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